描述:隨州印染廢氣處理設(shè)備處理方式 除臭設(shè)備除臭脫臭原理:利用吸附劑的吸附作用,將惡臭物質(zhì)從氣相轉(zhuǎn)移到固相。適用范圍:適用于處理低濃度、高凈化要求的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn):凈化效率非常高,可以處理多組分惡臭氣體。缺點(diǎn):吸附劑價(jià)錢昂貴,再生困難。
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隨州印染廢氣處理設(shè)備處理方式 除臭設(shè)備
脫臭原理:利用吸附劑的吸附作用,將惡臭物質(zhì)從氣相轉(zhuǎn)移到固相。適用范圍:適用于處理低濃度、高凈化要求的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn):凈化效率非常高,可以處理多組分惡臭氣體。缺點(diǎn):吸附劑價(jià)錢昂貴,再生困難。要求待處理的惡臭氣體具有較低的溫度和含塵量
直接燃燒法是投加輔助燃料與廢氣一起送入焚燒爐燃燒,直接焚燒工藝成熟,控制一定的溫度條件下污染物去除效率高,焚燒,但在使用過程中一般會(huì)有一下問題:
①若焚燒含氯、溴代有機(jī)物和芳烴類物質(zhì)時(shí)極易產(chǎn)生類強(qiáng)致癌物質(zhì),尤其在焚燒爐啟動(dòng)和關(guān)閉過程中更易產(chǎn)生,為避免類物質(zhì)產(chǎn)生,須提高燃燒溫度在1200℃以上,若保持如此高的燃燒溫度不僅運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用高,而且對(duì)焚燒爐的要求也大大提高。
光催化技術(shù)
光敏半導(dǎo)體催化氧化或納米金屬氧化物光催化也是近年來的研究熱點(diǎn),但該技術(shù)的降解效率受控于污染物質(zhì)與催化劑表面界面擴(kuò)散速率,而且催化劑價(jià)格昂貴、很容易中毒失效,目前光催化技術(shù)很難用于大規(guī)模工業(yè)化應(yīng)用,多局限于實(shí)驗(yàn)研究及小風(fēng)量應(yīng)用階段。
工業(yè)廢氣處理設(shè)備低溫等離子體法:等離子體內(nèi)部產(chǎn)生富含化學(xué)活性的粒子,如電子、離子、和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物質(zhì)與這些具有較高能量的活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng),終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O等物質(zhì),從而達(dá)到凈化廢氣的目的。適用范圍廣,凈化效率高,尤其適用于其它方法難以處理的多組分有機(jī)廢氣,設(shè)備占地面積??;電子能量高,幾乎可以和所有的有機(jī)廢氣分子作用;運(yùn)行費(fèi)用低;反應(yīng)快、停止十分迅速,隨用隨開。但對(duì)含水、含塵、有機(jī)廢氣易,一次性投資費(fèi)高。
工業(yè)廢氣處理設(shè)備低溫等離子體法:等離子體內(nèi)部產(chǎn)生富含化學(xué)活性的粒子,如電子、離子、和激發(fā)態(tài)分子等。廢氣中的污染物質(zhì)與這些具有較高能量的活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng),終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O等物質(zhì),從而達(dá)到凈化廢氣的目的。適用范圍廣,凈化效率高,尤其適用于其它方法難以處理的多組分有機(jī)廢氣,設(shè)備占地面積??;電子能量高,幾乎可以和所有的有機(jī)廢氣分子作用;運(yùn)行費(fèi)用低;反應(yīng)快、停止十分迅速,隨用隨開。但對(duì)含水、含塵、有機(jī)廢氣易,一次性投資費(fèi)高。
隨州印染廢氣處理設(shè)備處理方式 除臭設(shè)備
常用的有機(jī)廢氣處理方法有UV光氧催化、低溫等離子、催化燃燒、活性炭吸附、生物藥液降解等,這些有機(jī)廢氣因所處行業(yè)、濃度不同適合于不同的處理方法。